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迈可诺技术有限公司 
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| 电 话：027-87163161-8843 |
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| 手 机：18221354817 |
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| 供应美国N&Q半自动光刻机 |
NQ光刻机/曝光机的应用领域：
◆LED
◆MEMS
◆IC
◆Mircro-optics
NQ光刻机/曝光机的产品特点：
◆ 采用双面对准技术，精度可达到0.5微米；
◆ 光刻机的分辨率可达到0.6微米；
◆ 光强均匀度可以达到+/-3%(4英寸)和+/-4%（6英寸）。
◆ 高灵敏度光强可控电源
需要更详细的N&Q恩科优光刻机产品资料，
请与迈可诺技术有限公司中国营销服务中心区域办公室联系!
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